| 发明名称 | 用于ASP腔中等离子管器件盖体的密封装置 | ||
| 摘要 | 一种用于ASP腔中等离子管器件盖体的密封装置，该密封装置包含设置在盖体和等离子管之间空隙内的O型密封圈，还包含增设的O型密封圈，该增设的O型密封圈设置在盖体上增设的凹槽内。本发明避免了O型密封圈较快地被等离子体氧化刻蚀，从而延长了O型密封圈的使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN103527783A | 申请公布日期 | 2014.01.22 |
| 申请号 | CN201210231292.0 | 申请日期 | 2012.07.05 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 奚姚军;包中诚 |
| 分类号 | F16J15/06(2006.01)I;F16J15/10(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | F16J15/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人 | 张静洁;徐雯琼 |
| 主权项 | 一种用于ASP腔中等离子管器件盖体的密封装置，其特征在于，该密封装置包含设置在盖体（1）和等离子管（2）之间空隙内的O型密封圈（3），还包含增设的O型密封圈（4），该增设的O型密封圈（4）设置在盖体（1）上增设的凹槽（401）内。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||