发明名称 |
插拔性优异的镀锡铜合金端子材及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供发挥优异的电连接特性的同时降低动摩擦系数至0.3以下而插拔性优异的镀锡铜合金端子材及其制造方法。在Sn系表面层和由Cu或Cu合金构成的基材之间形成有CuSn合金层/NiSn合金层/Ni或Ni合金层,其中,CuSn合金层为以Cu6Sn5为主成分、Cu6Sn5的一部分Cu被Ni取代的化合物合金层,NiSn合金层为以Ni3Sn4为主成分、Ni3Sn4的一部分Ni被Cu取代的化合物合金层,CuSn合金层的局部峰的平均间隔S为0.8μm以上2.0μm以下且Sn系表面层的平均厚度为0.2μm以上0.6μm以下,Sn系表面层的表面所露出的CuSn合金层的面积率为1%以上40%以下,其露出部的圆当量直径的平均值为0.1μm以上1.5μm以下,动摩擦系数为0.3以下。 |
申请公布号 |
CN103531933A |
申请公布日期 |
2014.01.22 |
申请号 |
CN201310268172.2 |
申请日期 |
2013.06.28 |
申请人 |
三菱综合材料株式会社 |
发明人 |
谷之内勇树;加藤直树;久保田贤治 |
分类号 |
H01R13/03(2006.01)I;C23C30/00(2006.01)I;C25D5/12(2006.01)I;C25D5/50(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01R13/03(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
康泉;王珍仙 |
主权项 |
一种铜合金端子材,其为在由Cu或Cu合金构成的基材上的表面形成有Sn系表面层,在该Sn系表面层和所述基材之间,从所述Sn系表面层依次形成有CuSn合金层、NiSn合金层以及Ni或Ni合金层的镀锡铜合金端子材,其特征在于,所述CuSn合金层为以Cu6Sn5为主成分、该Cu6Sn5的一部分Cu被Ni取代的化合物合金层,所述NiSn合金层为以Ni3Sn4为主成分、该Ni3Sn4的一部分Ni被Cu取代的化合物合金层,所述CuSn合金层的局部峰的平均间隔S为0.8μm以上2.0μm以下且所述Sn系表面层的平均厚度为0.2μm以上0.6μm以下,所述Sn系表面层的表面所露出的所述CuSn合金层的面积率为1%以上40%以下,在所述Sn系表面层的表面所露出的所述CuSn合金层的各露出部的圆当量直径的平均值为0.1μm以上1.5μm以下,动摩擦系数为0.3以下。 |
地址 |
日本东京 |