| 发明名称 | 一种复合薄膜及其制作方法、光电元件和光电设备 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供了一种复合薄膜及其制作方法、光电元件和光电设备，涉及制作领域，可以避免团聚和荧光猝灭现象。所述复合薄膜的制作方法，包括：配置聚芴类化合物溶液，其中所述聚芴类化合物包括聚芴或聚芴衍生物；配置量子点溶液；将所述聚芴类化合物溶液和所述量子点溶液混合在一起制成混合溶液；去除所述混合溶液中的溶剂，制备成复合薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN103525406A | 申请公布日期 | 2014.01.22 |
| 申请号 | CN201310495376.X | 申请日期 | 2013.10.21 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 谷敬霞;唐琛 |
| 分类号 | C09K11/06(2006.01)I;C09K11/08(2006.01)I;C09K11/88(2006.01)I;C09K11/89(2006.01)I;H01L33/50(2010.01)I;H01L51/54(2006.01)I | 主分类号 | C09K11/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种复合薄膜的制作方法，其特征在于，包括：配置聚芴类化合物溶液，其中所述聚芴类化合物包括聚芴或聚芴衍生物；配置量子点溶液；将所述聚芴类化合物溶液和所述量子点溶液混合在一起制成混合溶液；去除所述混合溶液中的溶剂，制备成复合薄膜。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||