| 发明名称 | 用于处理基板的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种基板处理装置和一种基板处理方法。基板处理装置包括：基板支撑件，在其上布置基板；以及可移动喷射件，其将流体供给到布置在基板支撑件上的基板。可移动喷射件包括旋转以喷射至少一种流体的第一喷嘴臂以及布置在第一喷嘴臂上以喷射至少一种流体的第二喷嘴臂。 | ||
| 申请公布号 | CN103531503A | 申请公布日期 | 2014.01.22 |
| 申请号 | CN201310269120.7 | 申请日期 | 2013.06.28 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 李泽烨 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 杨生平;钟锦舜 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其包括：基板支撑件，在其上布置有基板；以及可移动喷射件，其将流体供给到布置在所述基板支撑件上的所述基板上，其中所述可移动喷射件包括：第一喷嘴臂，其旋转以喷射至少一种流体；以及第二喷嘴臂，其布置在所述第一喷嘴臂上以喷射至少一种流体。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道天安市 | ||