记录介质

摘要

记录介质在基材上包括墨接受层，其中该墨接受层含有水合氧化铝、C1-4烷基磺酸和通式(1)：X1-R1-(S)n-R2-X2的化合物的盐，其中n表示1或2；X1和X2各自独立地表示H、NH2或COOH，并且X1和X2的至少一个表示NH2或COOH；R1和R2各自独立地表示亚烷基、亚芳基或亚杂芳基，并且它们可彼此键合以形成环，设C1-4烷基磺酸的比例为A质量％，相对于水合氧化铝时，A在1.0-2.0的范围内，并且设通式(1)的化合物的盐的比例为B质量％，相对于水合氧化铝时，B在0.5-5.0的范围内。

主权项

记录介质，包括： 基材上的墨接受层， 其中该墨接受层含有水合氧化铝、具有1‑4个碳原子的烷基磺酸和由通式（1）表示的化合物的盐： X1‑R1‑(S)n‑R2‑X2（1）其中n表示1或2；X1和X2各自独立地表示H、NH2或COOH，并且X1和X2中的至少一个表示NH2或COOH；R1和R2各自独立地表示亚烷基、亚芳基或亚杂芳基，并且R1和R2可彼此键合以形成环，和 其中相对于水合氧化铝，设具有1‑4个碳原子的烷基磺酸的比例为A质量%时，A在1.0‑2.0的范围内，并且相对于水合氧化铝，设由通式（1）表示的化合物的盐的比例为B质量%时，B在0.5‑5.0的范围内。