具有可控制分配RF功率至制程套组环的等离子体反应器的工件支撑件

摘要

在静电夹盘中，RF偏压功率系分别被施加至工件和环绕工件的制程套组环。由系统控制器所控制的至少一个可变阻抗组件系调节工件和制程套组环之间的RF偏压功率分配，以允许在工件最边缘处的等离子体鞘电场的动态调整，由此例如在不同的等离子体条件下使电场均匀性最佳化。

主权项

一种用于等离子体反应器腔室中的RF偏压工件支撑系统，包括：圆盘，具有工件支撑表面以支撑工件；工件电极，嵌设于该圆盘中，该工件电极位于该工件支撑表面的下方，且与该工件支撑表面大致平行；金属板，位于该圆盘下方；环状制程套组环，环绕该工件支撑表面的周围边缘；制程套组电极组件，位于该制程套组环的下方；RF等离子体偏压电源，耦合至该工件电极及该制程套组电极组件；可变RF阻抗组件，包含电抗组件，该电抗组件具有可变电抗，该可变RF阻抗组件耦合在该RF等离子体偏压电源与（a）该工件电极及（b）该制程套组电极组件其中一者之间；以及系统控制器，连接至该可变RF阻抗组件的控制输入，由此控制该可变RF阻抗组件的该电抗组件的该可变电抗。