| 发明名称 | 被膜形成用涂布液，其制造方法，其被膜及反射防止材料 | ||
| 摘要 | 本发明提供保存稳定性优良、通过低温度的加热处理能充分地固化而形成耐擦伤性优良的被膜的被膜形成用涂布液、其制造方法、被膜、反射防止材料。该被膜形成用涂布液是含有聚硅氧烷(A)和选自式(1)表示的聚硅氧烷(B)及一元胺化合物(C)的至少一种，且它们溶解于有机溶剂(D)中的被膜形成用涂布液，上述聚硅氧烷(A)是带有具有氟原子的有机基团的聚硅氧烷，R1，R2，R3及R4分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基，n表示2以上的整数。 | ||
| 申请公布号 | CN101395238B | 申请公布日期 | 2014.01.22 |
| 申请号 | CN200780008121.9 | 申请日期 | 2007.03.06 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 谷好浩;元山贤一 |
| 分类号 | C09D183/08(2006.01)I;B05D5/06(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;C08J7/04(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;C09D183/02(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | C09D183/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 冯雅 |
| 主权项 | 1.被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷(A)和式(1)表示的聚硅氧烷(B)及一元胺化合物(C)，且它们溶解于有机溶剂(D)中，所述聚硅氧烷(A)是带有具有氟原子的有机基团的聚硅氧烷；<img file="FFW00000081714900011.GIF" wi="857" he="254" />R<sup>1</sup>，R<sup>2</sup>，R<sup>3</sup>及R<sup>4</sup>分别独立地表示氢原子或碳数1～5的饱和烃基，n表示2以上的整数；相对于聚硅氧烷(A)和聚硅氧烷(B)的全部硅原子的总量1摩尔，还含有0.01～2.5摩尔的无机酸或有机酸。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||