发明名称 |
电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置 |
摘要 |
本发明提供一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置。在电感耦合等离子处理装置中抑制覆盖窗构件的下表面的罩的破损和微粒的产生,而且能够容易地装卸罩。电感耦合等离子处理装置的电介体罩包括具有下表面以及与该下表面连续的侧端的被支承部。电介体罩固定器具包括:支承部,其与电介体罩的被支承部的下表面抵接,以被支承部夹在其与作为支承电介体壁的支承构件的支承梁和电介体壁中的至少一个之间的方式支承被支承部;被固定部,其与该支承部相连接,其一部分被配置在被支承部的侧端的侧方,以其与支承梁的位置关系不发生变化的方式被固定。 |
申请公布号 |
CN103533739A |
申请公布日期 |
2014.01.22 |
申请号 |
CN201310390661.5 |
申请日期 |
2010.03.25 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
佐藤亮;齐藤均;天野健次 |
分类号 |
H05H1/46(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/46(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,该电感耦合等离子处理装置包括:处理室,其具有构成顶板部分的窗构件,用于进行等离子处理;高频天线,其被配置在上述窗构件的上方,用于在上述处理室内形成感应电场;支承构件,其用于支承上述窗构件;罩,用于覆盖上述窗构件的下表面,上述罩固定器具用于上述电感耦合等离子处理装置,用于固定上述罩,其特征在于,包括:支承部,其用于对具有作为上述罩的一部分的下表面的被支承部进行支承;被固定部,其被固定于上述支承构件,上述罩包括罩主体,该罩主体具有下表面和上表面,构成罩的主要部分,上述被支承部被配置在上述罩主体的上表面的上方;上述支承部被配置在上述被支承部的下表面与上述罩主体的上表面之间。 |
地址 |
日本东京都 |