发明名称 使用超临界流体辅助之电化学沉积制程系统
摘要 本发明系有关于使用超临界流体与电化学溶液混合后,在非超临界相态下进行电化学反应之处理制程。藉由电化学溶液于反应槽外进行过滤循环时,抽取全部或部分溶液进入超临界流体之混合槽进行混合,混合后之流体在控制回到电化学反应应之温度、压力环境下,与原有的电化学反应槽内之溶液再度混合,调和反应槽内之电化学溶液特性,持续进行电化学处理反应,以达到改善电化学处理制程之功效。
申请公布号 TWI424097 申请公布日期 2014.01.21
申请号 TW101105573 申请日期 2012.02.21
申请人 国立台北科技大学 台北市大安区忠孝东路3段1号 发明人 阮 文强;李春颖;张六文
分类号 C25D21/12 主分类号 C25D21/12
代理机构 代理人
主权项
地址 台北市大安区忠孝东路3段1号