发明名称 |
碳化矽之研磨液及其研磨方法 |
摘要 |
本发明系提供一种可将在热性、化学性极为稳定,且极难以进行有效率之研磨处理之碳化矽,进行极高速平坦化之研磨处理技术。;本发明系一种碳化矽之研磨液,系由pH6.5以上,且悬浮有二氧化锰粒子之悬浮液所构成。此外,该碳化矽之研磨液,系以在设为能以二氧化锰之形态存在的范围之氧化还原电位之水溶液中悬浮有二氧化锰粒子之研磨液为佳。再者,该氧化还原电位V系以在以pH为变数之V、pH之关系式:1.014-0.0591pH≦V≦1.620-0.743pH之范围为佳。 |
申请公布号 |
TWI424051 |
申请公布日期 |
2014.01.21 |
申请号 |
TW099142954 |
申请日期 |
2010.12.09 |
申请人 |
国立大学法人九州大学 日本;三井金属鑛业股份有限公司 日本 |
发明人 |
土肥俊郎;黑河周平;大西修;长谷川正;河濑康弘;山口靖英 |
分类号 |
C09K3/14;B24B37/11;H01L21/304 |
主分类号 |
C09K3/14 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |