发明名称 |
蚀刻方法、微结构之制作方法及蚀刻装置 |
摘要 |
本发明在一实施例中揭示一种蚀刻方法。该方法可包括藉由电解硫酸溶液产生氧化物质,并藉由控制所产生氧化物质的产生量来产生具有指定氧化物种浓度的蚀刻溶液。该方法可包括将所产生之蚀刻溶液供应至工件表面。 |
申请公布号 |
TWI424089 |
申请公布日期 |
2014.01.21 |
申请号 |
TW099144398 |
申请日期 |
2010.12.16 |
申请人 |
东芝股份有限公司 日本;芝浦机械电子装置股份有限公司 日本;氯工程公司 日本 |
发明人 |
田家真纪子;速水直哉;佐藤伸良;米仓由里;平林英明;黑川祯明;小林信雄;加藤昌明;土门宏纪 |
分类号 |
C23F1/08;C25B1/30;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F1/08 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |