微影双重图形成形方法

摘要

一种微影图形成形方法，包含下列步骤：形成一第一光阻层于一基板上，第一光阻层包含至少一开口；固化第一光阻层；形成一第二光阻层于基板上；形成一物质层于基板上；以及移除第一及第二光阻层以曝露基板。