发明名称 拉制矽单晶的方法
摘要 本发明涉及一种从一容纳在一坩埚中的熔体中拉制一矽单晶的方法,其包含:将一晶种浸入该熔体;藉由在一拉晶速度下从熔体中拉提该晶种以在该晶种上结晶单晶;在一锥形部分中拓宽该单晶的直径至一定点直径,包括以在该锥形部分中诱导该单晶生长前端的曲率反转的方式,控制该拉晶速度。
申请公布号 TWI424103 申请公布日期 2014.01.21
申请号 TW099113654 申请日期 2010.04.29
申请人 世创电子材料公司 德国 发明人 巴尔 马库斯
分类号 C30B15/20 主分类号 C30B15/20
代理机构 代理人 陈翠华 台北市松山区南京东路3段261号6楼
主权项
地址 德国