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发明名称
流体处置结构、微影装置及元件制造方法
摘要
本发明揭示一种流体处置结构,该流体处置结构具有:复数个开口,其担当基于气体拖曳原理进行操作之一弯液面牵制系统;及一气刀,其自该弯液面牵制系统向外以使所留存之任何液体膜破裂。该气刀与该弯液面牵制系统之间的分离度系选自1毫米至5毫米之范围。理想地,经提供有该气刀及该弯液面牵制系统的一障壁部件之下侧在该气刀与该弯液面牵制系统之间系连续的,例如,无开口。
申请公布号
TWI424280
申请公布日期
2014.01.21
申请号
TW099116547
申请日期
2010.05.24
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
瑞潘 米歇尔;坎博 尼可拉斯 罗德夫
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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