垂直轮廓修正

摘要

提出一种蚀刻层中的特征之蚀刻方法。图案化光阻遮罩系形成于具有含侧壁的光阻特征之蚀刻层之上，其中光阻特征的侧壁具有沿着光阻特征的深度方向之不规则轮廓。将光阻特征的侧壁中之沿着光阻特征的深度方向之不规则轮廓修正为包含至少一个周期，其中各周期包含侧壁沈积阶段及轮廓成形阶段。特征系经由光阻特征而被蚀刻入蚀刻层中，移除遮罩。