发明名称 电子发射体之电场时效处理方法
摘要 本发明系用以使电子发射体之电子发射物性与使用寿命特性穏定化,对具有透过施加电场来发射电子之复数个微细突起的电子发射体,藉由使该复数个微细突起分别选择性地电场蒸发,来使微细突起整体之尺寸比均等化且局部地去除不穏定部分。
申请公布号 TWI424458 申请公布日期 2014.01.21
申请号 TW095148887 申请日期 2006.12.26
申请人 日本普瑞伦有限责任公司 日本 发明人 羽场方纪;江南
分类号 H01J29/04 主分类号 H01J29/04
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本