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发明名称
电子发射体之电场时效处理方法
摘要
本发明系用以使电子发射体之电子发射物性与使用寿命特性穏定化,对具有透过施加电场来发射电子之复数个微细突起的电子发射体,藉由使该复数个微细突起分别选择性地电场蒸发,来使微细突起整体之尺寸比均等化且局部地去除不穏定部分。
申请公布号
TWI424458
申请公布日期
2014.01.21
申请号
TW095148887
申请日期
2006.12.26
申请人
日本普瑞伦有限责任公司 日本
发明人
羽场方纪;江南
分类号
H01J29/04
主分类号
H01J29/04
代理机构
代理人
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址
日本
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