发明名称 |
成膜装置及成膜方法 |
摘要 |
所揭示的成膜装置,系具备:处理容器,其系于内部维持减压空间;基板保持部,其系由以碳为主成分的材料所构成,在处理容器内保持基板;线圈,其系配置于处理容器的外侧,感应加热基板保持部;及隔热材,其系配置成覆盖基板保持部,隔离处理容器。;上述减压空间系分离成:供给成膜气体的成膜气体供给空间、及被区划于基板保持部与处理容器之间的隔热空间,且,对隔热空间供给冷却媒体。 |
申请公布号 |
TWI424475 |
申请公布日期 |
2014.01.21 |
申请号 |
TW096149431 |
申请日期 |
2007.12.21 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 日本;罗姆股份有限公司 日本 |
发明人 |
森崎英介;小林洋克;吉川润;泽田郁夫;木本恒畅;川本典明;明田正俊 |
分类号 |
H01L21/205;C23C16/42;C23C16/46 |
主分类号 |
H01L21/205 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |