发明名称 成膜装置及成膜方法
摘要 所揭示的成膜装置,系具备:处理容器,其系于内部维持减压空间;基板保持部,其系由以碳为主成分的材料所构成,在处理容器内保持基板;线圈,其系配置于处理容器的外侧,感应加热基板保持部;及隔热材,其系配置成覆盖基板保持部,隔离处理容器。;上述减压空间系分离成:供给成膜气体的成膜气体供给空间、及被区划于基板保持部与处理容器之间的隔热空间,且,对隔热空间供给冷却媒体。
申请公布号 TWI424475 申请公布日期 2014.01.21
申请号 TW096149431 申请日期 2007.12.21
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本;罗姆股份有限公司 日本 发明人 森崎英介;小林洋克;吉川润;泽田郁夫;木本恒畅;川本典明;明田正俊
分类号 H01L21/205;C23C16/42;C23C16/46 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本