发明名称 新颖之化合物及其制造方法,酸产生剂,光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 本发明提供一种适合作为光阻组成物用之酸产生剂之下述通式(b1-1)所表示之新颖化合物及其制造方法,适合作为该化合物前驱物之化合物及其制造方法,酸产生剂、光阻组成物及光阻图型之形成方法。;〔化1〕;…(b1-1);〔式中、R1为可具有取代基之芳基或烷基,R3为氢原子或烷基,n1为0或1,n1为1时,R1及R3可相互键结,与该R1键结之碳原子及R3键结之碳原子同时形成3~7员环构造之环,A为,与该A键结之硫原子同时形成3~7员环构造之环的2价之基,前述环可具有取代基。R2为可具有取代基之芳香族基、可具有取代基之碳数1~10之直链状或支链状之烷基,或为可具有取代基之碳数2~10之直链状或支链状之烯基,n为0或1,Y1为可被氟取代之碳数1~4之伸烷基〕。
申请公布号 TWI424265 申请公布日期 2014.01.21
申请号 TW097125068 申请日期 2008.07.03
申请人 东京应化工业股份有限公司 日本 发明人 羽田英夫;岩井武;濑下武广;川上晃也;石塚启太
分类号 G03F7/004;C07C309/02;C07D333/46 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本