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发明名称
制造提供气隙控制之微机电系统装置之方法
摘要
本发明提供用于控制一在一光调变装置之两个层之间的空腔的一深度之方法及装置。一种制造一光调变装置之方法包括:提供一基板;在该基板之至少一部分上方形成一牺牲层;在该牺牲层之至少一部分上方形成一反射层;及在该基板上方形成一或多个挠曲控制器,该等挠曲控制器经组态以可操作地支撑该反射层,且在移除该牺牲层时,形成深度可量测地不同于该牺牲层之厚度的空腔,其中垂直于该基板而量测该深度。
申请公布号
TWI423920
申请公布日期
2014.01.21
申请号
TW096119029
申请日期
2007.05.28
申请人
高通微机电系统科技公司 美国
发明人
汤民豪;莱欧 寇古特
分类号
B81B3/00;H01L21/00;G02F1/01;B81B7/00;G02B26/00
主分类号
B81B3/00
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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