发明名称 |
形成一物质层的装置 |
摘要 |
本发明提供一种用于形成物质层之装置,包含室、分隔部件、支撑部件、反应气体提供部件以及绝缘部件。此室具有用以装载基板之内部空间。分隔部件设置于此室之内部空间中,以将内部空间分隔成用于容纳基板之反应区与非反应区。支撑部件置于反应区中,用以支撑基板。反应气体提供部件放置于支撑部件上,用以向反应区提供反应气体。此绝缘部件可卸下地与分隔部件相结合,以使反应区与非反应区相互隔离。如此,可抑止支撑部件中之加热器透过分隔部件经非反应区损失热量。 |
申请公布号 |
TWI424515 |
申请公布日期 |
2014.01.21 |
申请号 |
TW097104595 |
申请日期 |
2008.02.05 |
申请人 |
SOSUL股份有限公司 南韩;科林研发股份有限公司 美国 |
发明人 |
李喜世;金根镐;朴承一;李光世;尹守远;罗宽球 |
分类号 |
H01L21/67 |
主分类号 |
H01L21/67 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
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地址 |
美国 |