板构件、基板保持装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

基板保持具PH，具备：第1保持部PH1，系保持基板P；板构件T之内侧面Tc，系透过既定间隙A与保持于第1保持部PH1之基板P侧面相对向，具有拨液性；以及去角部C，系设于内侧面Tc上部。于基板P之侧面Pc设有具拨液性的拨液区域，去角部C，设置成与保持于第1保持部PH1之基板P的拨液区域相对向。藉此，提供一种可抑制液体渗入基板背面侧的基板保持装置。