发明名称 |
三维反及型记忆体及其制作方法 |
摘要 |
一种单体、三维反及串包括一位于一第二记忆体单元上方之第一记忆体单元。该第一记忆体单元之一半导体作用区域磊晶地形成于该第二记忆体单元之一半导体作用区域上,以使得在该第一记忆体单元之该半导体作用区域与该第二记忆体单元之该半导体作用区域之间存在一经界定之边界。 |
申请公布号 |
TWI424536 |
申请公布日期 |
2014.01.21 |
申请号 |
TW097110923 |
申请日期 |
2008.03.26 |
申请人 |
桑迪士克3D公司 美国 |
发明人 |
尼玛 莫克雷西;洛依 硕力恩 |
分类号 |
H01L21/8247;H01L21/8246;H01L27/115 |
主分类号 |
H01L21/8247 |
代理机构 |
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代理人 |
黄章典 台北市松山区敦化北路201号7楼;楼颖智 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |