| 摘要 |
本发明揭示一种微影装置，该微影装置包括：一照明系统，该照明系统经组态以调节一辐射光束；一支撑件，该支撑件经建构以支撑一图案化器件，该图案化器件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束；一镜面区块，该镜面区块具备经建构以固持一基板之一基板台；及一投影系统，该投影系统经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上，其中该镜面区块经建构及配置以减少介于该镜面区块与该基板台之间的滑动。滑动可发生在该镜面区块之加速度高的情况下，且该基板台相对于该镜面区块局域地滑动。滑动可导致曝光误差，因为不再以所要精确度来判定该基板之位置。 |
