薄膜电晶体阵列基板的制造方法

摘要

本发明揭露一种薄膜电晶体阵列基板的制作方法及其结构，该制造方法仅需使用两道光罩制程即可完成薄膜电晶体阵列的制作，其中利用第一道光罩制程界定出薄膜电晶体之源极及汲极的图案及曝露的介电层，并利用第二道光罩制程界定出透明导电层的配置。本发明之薄膜电晶体阵列基板的制作方法及其结构可大幅地降低用于制作光罩的成本，且可简化整体制程的步骤。