发明名称 |
薄膜电晶体基板的制造方法 |
摘要 |
本发明系关于一种薄膜电晶体(TFT)基板的制造方法,其包括下列步骤:在一基板上制作多晶矽膜图案,该图案包括多个第一种类型TFT源极接触区及汲极接触区和多个第二种类型TFT源极接触区及汲极接触区;对第一种类型TFT源极接触区与汲极接触区进行重掺杂;在多晶矽膜表面形成闸极绝缘膜,其上形成闸极金属线;对第二种类型TFT源极接触区与汲极接触区进行自我对准式重掺杂;在闸极绝缘膜和闸极金属线的表面形成介电层;制作连接通道及电极金属线;其中第一种类型TFT与第二种类型TFT重掺杂相互补偿。 |
申请公布号 |
TWI424505 |
申请公布日期 |
2014.01.21 |
申请号 |
TW097135052 |
申请日期 |
2008.09.12 |
申请人 |
群创光电股份有限公司 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科学路160号 |
发明人 |
叶冠华;郑再来;吴宏基 |
分类号 |
H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科学路160号 |