发明名称 薄膜电晶体基板的制造方法
摘要 本发明系关于一种薄膜电晶体(TFT)基板的制造方法,其包括下列步骤:在一基板上制作多晶矽膜图案,该图案包括多个第一种类型TFT源极接触区及汲极接触区和多个第二种类型TFT源极接触区及汲极接触区;对第一种类型TFT源极接触区与汲极接触区进行重掺杂;在多晶矽膜表面形成闸极绝缘膜,其上形成闸极金属线;对第二种类型TFT源极接触区与汲极接触区进行自我对准式重掺杂;在闸极绝缘膜和闸极金属线的表面形成介电层;制作连接通道及电极金属线;其中第一种类型TFT与第二种类型TFT重掺杂相互补偿。
申请公布号 TWI424505 申请公布日期 2014.01.21
申请号 TW097135052 申请日期 2008.09.12
申请人 群创光电股份有限公司 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科学路160号 发明人 叶冠华;郑再来;吴宏基
分类号 H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人 高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科学路160号