发明名称 FLOWING GAS SEAL ENCLOSURE FOR PROCESSING WORKPIECE SURFACE WITH CONTROLLED GAS ENVIRONMENT AND INTENSE LASER IRRADIATION
摘要 <p>On crée un environnement contrôlé de gaz ou du type gazeux contre une surface d'une pièce pour y exécuter des procédés exigeant un environnement gazeux. L'atmosphère de gaz est maintenue au niveau de la région de la surface par un flux de gaz continu sur ladite région et une partie de la région circonvoisine de la surface de la tranche recouverte par une enceinte suspendue sur la surface sur un film formé par le flux de gaz, et ainsi la tranche, tout en étant dans un environnement ambiant, est introduite pour être traitée sur la région sélectionnée de sa surface et est retirée après traitement sans qu'il soit nécessaire de plonger la totalité de la tranche dans l'atmosphère gazeuse, les problèmes d'ouverture et de fermeture de prises de gaz statiques étant également évités. La pression, la température et la composition de l'atmosphère de gaz produite contre la surface sélectionnée traitée de la tranche sont régulées afin de répondre aux exigences de chaque étape de traitement et/ou d'entraîner des particules tandis que le joint gazeux est maintenu.</p>
申请公布号 WO8805211(A1) 申请公布日期 1988.07.14
申请号 WO1987US03488 申请日期 1987.12.28
申请人 IMAGE MICRO SYSTEMS, INC. 发明人 PIWCZYK, BERNHARD
分类号 C30B35/00;C23C16/04;G03F7/20;H01L21/00;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/22;H01L21/263;H01L21/302;H01S3/00;(IPC1-7):H01L21/00;B23K26/02;H01J37/18 主分类号 C30B35/00
代理机构 代理人
主权项
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