| 发明名称 |
SYSTEMS FOR NEGATIVE ION GENERATION AND SUBSTRATE PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH01307225(A) |
申请公布日期 |
1989.12.12 |
| 申请号 |
JP19880137549 |
申请日期 |
1988.06.06 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
FUKUDA TAKUYA;OGAMI MICHIO;MONMA NAOHIRO |
| 分类号 |
H05H1/00;C23C16/27;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
H05H1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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