发明名称 Dosiereinrichtung, Behandlungsstation, Behandlungsanlage und Dosierverfahren
摘要 Dosiereinrichtung (1, 1') zur Bereitstellung einer im Rahmen einer nasschemischen Behandlung von Werkstücken einzusetzenden flüssigen Komponente (F), umfassend einen Speicher (2) mit einem Einlass (3) und einem Auslass (4), mindestens eine in den Speicher (2) mündende Zuführleitung (5), eine Wägeeinrichtung (7) für den Speicherinhalt (F'), eine stromabwärts des Auslasses (4) angeordnete Durchflussmesseinrichtung (8), mindestens ein steuerbares Auslassventil (9), sowie eine Abführleitung (10, 10'), wobei der Speicher (2) einen Zufluss (11) für Druckgas (G) aufweist und der Auslass (4) im unteren Bereich (2'') des Speichers (2) angeordnet ist.
申请公布号 DE102012000899(B4) 申请公布日期 2014.01.16
申请号 DE20121000899 申请日期 2012.01.19
申请人 RENA GMBH 发明人 SCHWECKENDIEK, JUERGEN;WITTMANN, TANJA;NIESE, MATTHIAS
分类号 B01J4/02;H01L21/304;H01L21/306 主分类号 B01J4/02
代理机构 代理人
主权项
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