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<p>Es wird ein System und Verfahren zu Herstellung einer Kohlenstoffschicht angegeben. Eine Ausführung umfasst das Ablagern einer ersten Metallschicht auf einem Substrat, wobei das Substrat Kohlenstoff aufweist. Ein Silizid wird epitaktisch auf dem Substrat aufgezogen, wobei das epitaktische Aufziehen des Silizids auch eine Schicht aus Kohlenstoff auf dem Silizid ausbildet. In einer Ausführung besteht die Kohlenstoffschicht aus Graphen und kann auf ein Halbleitersubstrat zur weiteren Verarbeitung übertragen werden, um einen Kanal in dem Graphen auszubilden.</p> |
