| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Wärmebehandeln eines Gegenstands, insbesondere eines beschichteten Substrats, mit einem insbesondere gasdicht verschließbaren Gehäuse das einen Hohlraum umgrenzt, wobei der Hohlraum eine Trennwand aufweist, durch die der Hohlraum in einen Prozessraum zum Aufnehmen des Gegenstands und einen Zwischenraum unterteilt ist, wobei die Trennwand über eine oder mehrere Öffnungen verfügt, die so ausgebildet sind, dass die Trennwand als Barriere für die Diffusion eines durch die Wärmebehandlung des Gegenstands im Prozessraum erzeugten gasförmigen Stoffs aus dem Prozessraum in den Zwischenraum wirkt. Hierbei weist das Gehäuse wenigstens einen mit einer Kühleinrichtung zu dessen aktiven Kühlung gekoppelten Gehäuseabschnitt auf, wobei die Trennwand zwi- schen dem Gegenstand und dem kühlbaren Gehäuseabschnitt angeordnet ist. Des Weiteren betrifft die Erfindung die Verwendung einer Trennwand als Diffusionsbarriere in einer Vorrichtung zum Wärmebehandeln eines Gegenstands sowie ein entsprechendes Verfahren zum Wärmebehandeln eines Gegenstands.</p> |
