| 发明名称 | 相对于表面进行移动的经涂覆的构件及该经涂覆的构件的制造方法 | ||
| 摘要 | 在此披露了一种被适配成相对于一个表面（26）进行移动的经涂覆的构件（22）以及该经涂覆的构件（22）的制造方法，其中在该经涂覆的构件（22）与该表面（26）之间的间隙距离（40）存在于该经涂覆的构件（22）的临界区域（30）中。该经涂覆的构件（22）在该临界区域（30）中具有一个最终尺寸（36）。该基体（46）具有一个过小的基体区域（48），该过小的基体区域具有一个最小的尺寸减小深度（50），该最小的尺寸减小深度是等于该间隙距离（40）的约百分之七十五。该过小的基体区域（48）对应于该经涂覆的构件（22）的临界区域（30）。一个最终涂层方案（56）位于该过小的基体区域（48）上，其中该最终涂层方案（56）是对一个过大的涂层方案（60）进行精加工以形成该最终涂层方案（56）的结果，其中该经涂覆的构件（22）在该临界区域（22）中具有该最终尺寸（36）。 | ||
| 申请公布号 | CN103511225A | 申请公布日期 | 2014.01.15 |
| 申请号 | CN201310228291.5 | 申请日期 | 2013.06.09 |
| 申请人 | 钴碳化钨硬质合金公司 | 发明人 | S·布拉曼达姆;D·R·西德尔;I·斯皮特斯伯格 |
| 分类号 | F04B39/00(2006.01)I;F04B53/14(2006.01)I | 主分类号 | F04B39/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张涛 |
| 主权项 | 一种被适配成相对于一个表面（26）进行移动的经涂覆的构件（22），其中在该经涂覆的构件（22）与该表面（26）之间的间隙距离（40）存在于该经涂覆的构件（22）的一个临界区域（30）中，该经涂覆的构件（22）包括：该经涂覆的构件（22），该经涂覆的构件在该临界区域（30）中具有一个最终尺寸（36）；一个具有过小的基体区域（48）的基体（46），该过小的基体区域具有最小的尺寸减小深度（50），其中该最小的尺寸减小深度（50）是等于该间隙距离（40）的约75%，并且该过小的基体区域（48）对应于该经涂覆的构件（22）的临界区域（30）；以及在该过小的基体区域（48）上的一个最终涂层方案（56），其中该最终涂层方案（56）是对一个过大的涂层方案（60）进行处理以形成该最终涂层方案（56）的结果，其中该经涂覆的构件（22）在该临界区域（30）中具有该最终尺寸（36）。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚 | ||