半导体清洗组合物

摘要

本发明提供了一种用于去除光刻胶残留物的清洗组合物，其特征在于：包括小分子抑制剂混合物、溶剂、季铵氢氧化物、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液、烷基二醇芳基醚。该清洗组合物降低对晶片图形和对铝和铜等金属，以及二氧化硅等非金属基材的腐蚀，尤其是其含有的小分子抑制剂对金属铝的腐蚀表现出良好的抑制作用。

主权项

一种用于去除光刻胶残留物的清洗组合物，其特征在于：包括小分子抑制剂混合物、溶剂、季铵氢氧化物、柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液、烷基二醇芳基醚。