生产像素化显示装置的方法

摘要

一种用于生产多个像素化显示装置的方法，每个装置包括：包含单独可控的像素电极阵列的第一构件；以及包括含有光传输特性不同的至少两个不同类型的像素滤波器的像素滤波器阵列的第二构件，每个像素滤波器与所述像素电极中的各自一个像素电极关联；其中该方法包括：通过不可避免地在像素电极阵列内产生某些畸变从而导致在所述像素电极阵列的不同区域之间的像素电极间距的最大程度的变化的生产方法来生产所述第一构件；通过能够导致在第一构件上的对准参考位置与第二构件上的对准参考位置之间的最大程度的失配的技术来将所述第二构件施加于所述第一构件；并且将所述像素滤波器阵列配置为在中性框架内的像素滤波器阵列，所述中性框架限定了在每个像素滤波器之间的间隔距离，该间隔距离大到足以即使在所述像素电极阵列的不同区域之间的像素电极间距的所述最大变化的情况下以及在第一构件上的所述对准参考位置与第二构件上的所述对准参考位置之间的所述最大程度的失配的情况下也可防止像素滤波器阵列中的任意像素滤波器与所述像素电极中的多于一个像素电极重叠。

主权项

一种用于生产多个像素化显示装置的方法，每个装置包括：包含单独可控的像素电极阵列的第一构件；以及包括像素滤波器阵列的第二构件，所述像素滤波器阵列包含光传输特性不同的至少两个不同类型的像素滤波器，每个像素滤波器与所述像素电极中的各自一个像素电极关联；其中所述方法包括：通过不可避免地在所述像素电极阵列内产生某种畸变从而导致在所述像素电极阵列的不同区域之间的像素电极间距的最大程度的变化的生产方法来生产所述第一构件；通过能够导致在所述第一构件上的对准参考位置与所述第二构件上的对准参考位置之间的最大程度的失配的技术来将所述第二构件施加于所述第一构件；以及将所述像素滤波器阵列配置为在中性框架内的像素滤波器阵列，所述中性框架限定在每个像素滤波器之间的间隔距离，所述间隔距离大到足以即使在所述像素电极阵列的不同区域之间的像素电极间距的所述最大变化的情况下以及在第一构件上的所述对准参考位置与第二构件上的所述对准参考位置之间的所述最大程度的失配的情况下也可防止所述像素滤波器阵列中的任意像素滤波器与所述像素电极中的多于一个像素电极重叠。