发明名称 |
放射线敏感性组合物以及固化膜 |
摘要 |
本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性,并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物,以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物,其含有[A]水解缩合物,该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅;以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物,优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分,以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。 |
申请公布号 |
CN102156387B |
申请公布日期 |
2014.01.15 |
申请号 |
CN201010610519.3 |
申请日期 |
2010.12.16 |
申请人 |
JSR株式会社 |
发明人 |
铃木康伸;上田二朗;一户大吾;高瀬英明 |
分类号 |
G03F7/075(2006.01)I;H01L23/29(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/075(2006.01)I |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 11216 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
一种正型放射线敏感性组合物,其含有:[A]水解缩合物,该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅;以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂,其中[A]成分的水解缩合物含有下述式(1)和式(2)所表示的键,‑Si‑X1‑ (1)式中,X1为氧、氮或碳,‑M‑X2‑ (2)式中,M为铝、锆、钛、锌或锡;X2为氧、氮或碳,其中上述元素Si、M、X1和X2的各电负性χSi、χM、χX1和χX2满足以下关系式(3),χX1‑χSi<χX2‑χM (3),其中式(1)所表示的键来自于下述式(4)所表示的水解性化合物,以及式(2)所表示的键来自于下述式(5)所表示的水解性化合物,(R1)n‑Si‑(OR2)4‑n (4)式中,R1各自独立地为氢或碳原子数为1~20的非水解性有机基团;R2各自独立地为氢、碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的酰基或碳原子数为6~15的芳基;n为0至3的整数,(R3)m‑M‑(OR4)p‑m (5)式中,M为铝、锆、钛、锌或锡;R3各自独立地为氢或碳原子数为1~20的非水解性有机基团;R4各自独立地为氢、碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的酰基或碳原子数为6~15的芳基;p为元素M的价数;m为0至3的整数,p‑m≧1。 |
地址 |
日本东京都 |