| 发明名称 |
METHOD FOR MEASURING INTERFACE CHARACTERISTIC OF SEMICONDUCTOR MATERIAL BY LIGHT REFLECTION METHOD |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH03163842(A) |
申请公布日期 |
1991.07.15 |
| 申请号 |
JP19900189600 |
申请日期 |
1990.07.19 |
| 申请人 |
FURETSUDO EICHI PORAAKU;HON EN SHIEN |
发明人 |
FURETSUDO EICHI PORAAKU;HON EN SHIEN |
| 分类号 |
H01L21/66;G01N21/17;G01N21/55;G01N21/63;G01N21/84 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
