发明名称 热处理装置以及热处理方法
摘要 本发明提供一种能够与基材的种类无关地在所需要的条件下加热被处理体的热处理装置以及热处理方法。通过卷对卷的方式从送出辊(11)向卷取辊(12)以恒定速度搬运带状的被处理体(8)。被处理体(8)是在PEN等树脂的基材的表面上层叠纳米墨等功能层而成的。一边以恒定速度搬运被处理体(8),一边从加热光源(20)的氙灯(21)向被处理体(8)的表面照射光,由此向被处理体(8)的表面的各位置照射短时间的光。由此,不会过度地对耐热性差的基材(81)进行加热,而能够仅将功能层(82)加热至所需要的温度。
申请公布号 CN103515204A 申请公布日期 2014.01.15
申请号 CN201310211205.X 申请日期 2013.05.31
申请人 大日本网屏制造株式会社 发明人 木村贵弘;涩田浩二;锹田豊
分类号 H01L21/26(2006.01)I 主分类号 H01L21/26(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 宋晓宝;郭晓东
主权项 一种热处理装置,通过向带状的被处理体照射光来加热该被处理体,其特征在于,具有:搬运部,其通过第二辊卷取第一辊所送出的被处理体,来向第一方向连续地搬运被处理体;光源,其在与上述第一方向垂直的第二方向上具有长轴,并且与在上述第一辊和上述第二辊之间被搬运的被处理体的表面相向配设,由此向该被处理体的表面照射光来进行加热。
地址 日本国京都府京都市