发明名称 发光装置的P型导电砷化镓晶体
摘要 一种发光装置的P型导电GaAs晶体,包括:导电的砷化镓(GaAs)晶体;锌(Zn),将导电的GaAs晶体变成P型导电的GaAs晶体;铟(In),改变被Zn所变之P型导电GaAs晶体的晶格常数;以及矽(Si)或碳(C),将Zn与P型导电GaAs晶体在结晶状态结合。
申请公布号 TW182077 申请公布日期 1992.04.11
申请号 TW080108052 申请日期 1991.10.12
申请人 东芝股份有限公司 发明人 藤井高志;藤田宏元
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种发光装置的P型导电砷化镓晶体,包括:导电的砷化镓站(GaAs)晶体;锌(Zn),将导电的GaAs晶体变成P型导电的GaAs晶体,Zn掺入晶体;铟(In),改变被Zn所变之P型导电GaAs晶体的晶格常数;In惨入晶体;以及矽(Si),将Zn与P型导电GaAs晶体在结晶状态结合,S1掺入晶体。2.一种发光装置的P型导电砷化镓晶体,包括:导电的砷化镓(GaAs)晶体;锌(Zn),将导电的GaAs晶体变成P型导电的GaAs晶体,Zn掺入晶体;铟(In),改变被Zn所变之P型导电GaAs晶体的晶格常数,In掺入晶体;以及碳(C),将Zn与P型导电GaAs晶体在结晶状态结合,C掺入晶体。3.如申请专利范围第1项之砷化镓晶体,包含:碳(C),将Zn与P型导电GaAs晶体在结晶状态结合。4.如申请专利范围第1项之砷化镓晶体,其中Si和In浓度的范围是11015≦Si<11016原子/cm3且O<In≦l1019原子/cm3,以及11016≦Si≦l1018原子/cm3且0<In≦11020原子/cm3。5.如申请专利范围第1项之砷化镓晶体,其中In浓度低于Zn浓度。6.如申请专利范围第2项之砷化镓晶体,其中C和In浓度的范围是51014≦C<11015原子/cm3 且O<In≦l1019原子/cm3,以及11015≦C≦11018原子/cm3且0<In≦l
地址 日本国神奈川县川崎巿幸区堀川町七十二番地