含矽交互式共聚合物及含有该共聚合物之紫外光用正型光阻剂

摘要

以自由基溶液聚合方法来制造对 -矽烷类 -α-甲基苯乙烯与氮 -(对-醋酸苯基)马来亚醯胺之交互式共聚合物。以不同量的热起始剂(α，α'-偶氮双异丁)与溶剂来控制共聚物的分子量，再经酯交换反应而生成具有羟基之新型含矽共聚物。将此共聚物与偶氮酯类混合制成新型正紫外光光阻剂，应用在积体电路制程的光微影程序中，具有高敏感度及高解析度，显影图案在硬烤温度 250℃或以上达30 分钟均无变形；此光阻剂对于矽晶片之附着性佳，对氧电浆蚀刻具有优良的阻抗性。

主权项

1﹒一种含矽交互式共聚合物,其制造方法是由氮-(对-醋酸苯基)马来亚醯胺与对─矽院类──甲基苯乙烯两种单体,以莫耳比1:1混合及添加0﹒2─1﹒0重量百分比的,'-偶氮双异丁当做起始剂,溶于溶剂中聚合20-36小时,反应时温度60─100℃,然后以甲醇当沉淀剂,所得沉淀物经酯交换反应而生成具有羟基的共聚合物,其特征是经由元素分析证实其结构为1:1之交互式共聚合物,颜色为白色或淡黄色,结晶状态呈非结晶性,及具有高的热稳定性,其玻璃转换点温度在235℃以上2﹒依申请专利范围第1项之合矽交互式共聚合物,其中对─矽烷类──甲基苯乙烯可为对─矽甲烷──甲基苯乙烯(R=CH3)或对─矽乙烷──甲基苯乙烯(R=C2H5)。3﹒依申请专利范围第1项之含矽交互式共聚合物,其中溶剂可为丙酮、四氢喃、1,4-二氧陆圜、甲苯或二甲苯,添加量为50─90重量百分比。4﹒一种紫外光用正型光阻剂材料,其特征是含有依申请专利范围第1项之合矽交互式共聚合物,重氮酯类及溶剂,三者之重量比例为20:1:100至20:20:200。5﹒依申请专利范围第4项之正型光阻剂材料,其中溶剂可为丙酮、四氢喃、甲苯、二甲苯、2─乙氧醋酸乙酯、2─甲氧醋酸乙酯或以上两种之混合。