用于原子层沉积和化学气相沉积反应器的使用点阀歧管

摘要

本发明提供了一种用于原子层沉积和化学气相沉积反应器的使用点阀歧管（POU阀歧管），其允许多个前体通过共同的出口被输送到半导体处理室。该歧管可具有多个前体入口和清除气体入口。该歧管可配置成使得当清除气体按照路线通过该歧管时歧管中存在零死角，并且可以提供POU阀两侧交替的安装位置。一个或多个内部流动路径容积可包括弯头特征。

主权项

一种在半导体加工工具中使用的阀歧管，其包括：歧管主体；清除气体入口；歧管出口，所述歧管出口位于所述歧管主体的第一侧；第一阀接口，所述第一阀接口位于所述歧管主体的不同于所述第一侧的第二侧；以及第二阀接口，所述第二阀接口位于所述歧管主体的不同于所述第一侧和所述第二侧的第三侧，其中所述第一阀接口和所述第二阀接口每个包括第一端口、第二端口、和第三端口，所述第一阀接口的所述第二端口被配置为连接到第一处理气体供给源，所述第一阀接口的所述第三端口通过所述歧管主体内部的第一流动路径与所述第二阀接口的所述第一端口流体连接，并没有死角，所述第二阀接口的所述第二端口与配置为连接到第二处理气体供给源的接口流体连接，以及所述第二阀接口的所述第三端口通过所述歧管主体内部的第二流动路径与所述歧管出口流体连接，并没有死角。