发明名称 | 一种选择吸收滤光结构 | ||
摘要 | 一种选择吸收滤光结构,包括:基底,位于基底上的介质微纳单元,位于介质微纳单元上的金属层,金属层全覆盖在介质微纳单元上,即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层,所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。该滤光结构具有较高的吸收效率,且对入射光的角度和偏振态不敏感。同时制备工艺简单,易于实现。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量,也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案,改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。 | ||
申请公布号 | CN103513316A | 申请公布日期 | 2014.01.15 |
申请号 | CN201310456357.6 | 申请日期 | 2013.09.29 |
申请人 | 苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 发明人 | 周云;陈林森;申溯;叶燕 |
分类号 | G02B5/22(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/22(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 唐灵;常亮 |
主权项 | 一种选择吸收滤光结构,包括:基底,位于基底上的介质微纳单元,位于介质微纳单元上的金属层,金属层全覆盖在介质微纳单元上,即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层,其特征在于:所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。 | ||
地址 | 215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 |