发明名称 曝光资料准备方法及曝光方法
摘要 在用于带电粒子束曝光之曝光资料准备方法中,其中,当剂量对于每一图案被调整时,一曝光物体被曝光,该方法包括以下步骤:根据一目标线宽,将一图案分类;对于具有该目标线宽的一组图案,设定显示一标准剂量与一阻剂图案的一生成线宽之间的关系之一标准特征;及藉由修正一形状及剂量,准备曝光资料,使得显示具有该目标线宽之每一图案的剂量与一阻剂图案的一生成线宽之间的关系之一特征遵循该标准特征。
申请公布号 TWI423305 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW097148448 申请日期 2008.12.12
申请人 富士通半导体股份有限公司 日本 发明人 荻野宏三;町田泰秀
分类号 H01L21/027;G03B27/72 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 日本