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发明名称
半导体晶圆之保护带切断方法及其装置
摘要
使切割刀刃沿着半导体晶圆的外周进行相对移动,并且藉连同切割刀刃一起对半导体晶圆进行相对移动的集尘构件,将发生在因切割刀刃所致之带切断部位而附着在保护带T之上面的尘埃扫集,在结束带切断后,藉抽吸喷嘴,将扫集在预定部位的尘埃予以抽吸去除。
申请公布号
TWI423311
申请公布日期
2014.01.11
申请号
TW097145588
申请日期
2008.11.26
申请人
日东电工股份有限公司 日本
发明人
石井直树;山本雅之
分类号
H01L21/30;B26D7/18
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址
日本
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