发明名称 相分离介电结构之组装方法
摘要 一种组装电子装置之方法,其系包括沉积包括半导体之层;液相沉积介电组成物,其包括低k介电材料、高k介电材料及液体,其中该低k介电材料及该高k介电材料在液相沉积之前未相分离;及造成该低k介电材料及该高k介电材料相分离而形成相分离介电结构,其中在介电结构最接近该包括半导体之层的区域内,该低k介电材料之浓度系比该高k介电材料还高;其中沉积该包括半导体之层,系在液相沉积该介电组成物之前或者在造成相分离之后。
申请公布号 TWI422611 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW097111666 申请日期 2008.03.31
申请人 全录股份有限公司 美国 发明人 吴怡良;哈迪K. 马哈巴狄;翁班;保罗F. 史密斯
分类号 C08G61/12;H01L51/05 主分类号 C08G61/12
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;王彦评 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 美国