发明名称 |
相分离介电结构之组装方法 |
摘要 |
一种组装电子装置之方法,其系包括沉积包括半导体之层;液相沉积介电组成物,其包括低k介电材料、高k介电材料及液体,其中该低k介电材料及该高k介电材料在液相沉积之前未相分离;及造成该低k介电材料及该高k介电材料相分离而形成相分离介电结构,其中在介电结构最接近该包括半导体之层的区域内,该低k介电材料之浓度系比该高k介电材料还高;其中沉积该包括半导体之层,系在液相沉积该介电组成物之前或者在造成相分离之后。 |
申请公布号 |
TWI422611 |
申请公布日期 |
2014.01.11 |
申请号 |
TW097111666 |
申请日期 |
2008.03.31 |
申请人 |
全录股份有限公司 美国 |
发明人 |
吴怡良;哈迪K. 马哈巴狄;翁班;保罗F. 史密斯 |
分类号 |
C08G61/12;H01L51/05 |
主分类号 |
C08G61/12 |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;王彦评 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |