发明名称 氢离子感测场效电晶体及其制造方法
摘要 本发明系为一种氢离子感测场效电晶体及其制造方法,其包括半导体基材、绝缘层、电晶体闸极以及感测薄膜层。半导体基材上定义有闸极范围,并且具有源极区及汲极区。绝缘层是形成于半导体基材上之闸极范围内,而电晶体闸极则是设置于闸极范围内并且具有第一闸极导电层,而第一闸极导电层系为铝金属层并且定义有感测窗区域于其上。感测薄膜层系形成于感测窗区域内,其中感测薄膜层系为由第一闸极导电层氧化而成之一层氧化铝层。由于本发明可无须藉由额外的薄膜沉积制程即可生成出感测薄膜层,因此可简化制程。
申请公布号 TWI422818 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW099100444 申请日期 2010.01.11
申请人 财团法人国家实验研究院国家晶片系统设计中心 新竹市科学园区展业一路26号7楼 发明人 魏庆隆;邱进峯;庄英宗;蔡瀚辉;林建甫
分类号 G01N27/414 主分类号 G01N27/414
代理机构 代理人 傅尹坤 台北市大安区复兴南路1段380号12楼之1
主权项
地址 新竹市科学园区展业一路26号7楼