发明名称 |
氢离子感测场效电晶体及其制造方法 |
摘要 |
本发明系为一种氢离子感测场效电晶体及其制造方法,其包括半导体基材、绝缘层、电晶体闸极以及感测薄膜层。半导体基材上定义有闸极范围,并且具有源极区及汲极区。绝缘层是形成于半导体基材上之闸极范围内,而电晶体闸极则是设置于闸极范围内并且具有第一闸极导电层,而第一闸极导电层系为铝金属层并且定义有感测窗区域于其上。感测薄膜层系形成于感测窗区域内,其中感测薄膜层系为由第一闸极导电层氧化而成之一层氧化铝层。由于本发明可无须藉由额外的薄膜沉积制程即可生成出感测薄膜层,因此可简化制程。 |
申请公布号 |
TWI422818 |
申请公布日期 |
2014.01.11 |
申请号 |
TW099100444 |
申请日期 |
2010.01.11 |
申请人 |
财团法人国家实验研究院国家晶片系统设计中心 新竹市科学园区展业一路26号7楼 |
发明人 |
魏庆隆;邱进峯;庄英宗;蔡瀚辉;林建甫 |
分类号 |
G01N27/414 |
主分类号 |
G01N27/414 |
代理机构 |
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代理人 |
傅尹坤 台北市大安区复兴南路1段380号12楼之1 |
主权项 |
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地址 |
新竹市科学园区展业一路26号7楼 |