| 摘要 |
本发明系提供以ArF准分子雷射作为曝光光源，且被使用于以变形照明所进行之投影曝光，一边保持作为辅助图案之放大焦点深度效果，一边未将辅助图案解像，具有可形成主图案之对比度高之转印影像的辅助图案的半色调光罩及其制造方法。;本发明之特征为，光罩系设置经由投影曝光而转印至转印对象面的主要图案、以及在主要图案附近形成且未被转印之辅助图案者，其中，主要图案与辅助图案以相同材料形成的半透明膜所构成，穿透主要图案的光与穿透透明基板之透明区域的光系产生180度的相位差，且穿透辅助图案的光与穿透透明基板之透明区域的光系产生70度~115度范围之既定的相位差。 |
