发明名称 电浆处理装置,电浆处理方法,暨使用于此之介电质窗及其制造方法
摘要 本发明之课题是实现均一性优良之电浆掺杂。;本发明之解决手段是从气体供给装置2和16,将指定之气体导入到真空容器1内,利用作为排气装置之轮机分子泵3,经由排气口11进行排气,利用调压阀4用来将真空容器1内保持在指定之压力。利用高频率电源5将13.56MHz之高频率电力供给到被设在面对试料电极6之介电质窗7之附近之线圈8,藉以在真空容器1内产生感应耦合型电浆,介电质窗7由多个之介电板构成,至少在互相面对之2片之介电板之至少一面形成有沟,利用上述之沟和与上述之沟面对之平坦面用来构成气体流路,同时被设在最接近试料电极之介电板之气体吹出口15、19在介电质窗内连通到该沟。从气体吹出口15和19导入之气体之流量可以独立地控制,从而可以提高处理之均一性。
申请公布号 TWI423308 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW095132344 申请日期 2006.09.01
申请人 松下电器产业股份有限公司 日本 发明人 奥村智洋;伊藤裕之;佐佐木雄一朗;冈下胜己;水野文二;中山一郎;置田尚吾;永井久雄
分类号 H01L21/22;H01L21/26 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
地址 日本