发明名称 覆晶式氮化镓发光二极体之制造方法
摘要 本发明系揭露一种覆晶式氮化镓发光二极体之制造方法,系于磊晶层预设位置处蚀刻致使基板部分露出形成第一沟槽,且磊晶层另一预设位置再蚀刻致使N型氮化镓欧姆接触层部分露出之第二沟槽,该第一沟槽一侧之P型氮化镓欧姆接触层表面,依序形成有透光导电层、N型电极衬垫、第一绝缘保护层、金属反射层及第二绝缘保护层,而第一沟槽另侧之N型氮化镓欧姆接触层表面,则依序形成有透光导电层、N型电极衬垫、第一绝缘保护层及第二绝缘保护层,上述,不仅能使P型电极衬垫与N型电极衬垫呈一齐平而顺利电性连接于电路板,且因金属反射层不参与导电便能有效避免顺向电压的不当升高,藉以减少耗电量及热能,有效提升发光二极体的发光效率。
申请公布号 TWI423482 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW098116609 申请日期 2009.05.19
申请人 吕联祥 发明人 吕联祥
分类号 H01L33/40 主分类号 H01L33/40
代理机构 代理人 江明志 台北市大安区忠孝东路4段148号2楼之4;张朝坤 台北市大安区忠孝东路4段148号2楼之4
主权项
地址 台北市信义区松山路130号10楼之2 TW 10F-2, NO. 130, SUNGSHAN ROAD, HSIN-YI DISTRICT, TAIPEI CITY