发明名称 奈米微影系统以及奈米微影方法
摘要 本发明提供一种奈米微影系统,可用以涂布一材料于一基板上。本发明之奈米微影系统包含一涂布结构以及一光束聚焦装置,其中,该涂布结构系以固体状之该材料所制成,并且其具有一接触点用以接触该基板。该光束聚焦装置能发出一光束,并且能将该光束聚焦于该涂布结构之该接触点上以熔化该接触点上之该材料。当该接触点之该材料被熔化并该接触点接触该基板时,该材料能涂布于该基板与该接触点接触之位置。
申请公布号 TWI422985 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW098108100 申请日期 2009.03.12
申请人 瑞鼎科技股份有限公司 新竹市科学工业园区力行路23号2楼;徐琅;刘承贤 新竹市光复路2段305号8楼;杨裕雄 发明人 徐琅;王威;刘承贤;杨裕雄;苏益志;周忠诚
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 李贞仪 台北市大安区仁爱路4段376号8楼
主权项
地址 新竹市东区建中一路29号11楼之1 TW 11F.-1, NO. 29, JIANZHONG 1ST RD., EAST DISTRICT, HSINCHU CITY 300, TAIWAN (R. O. C.)