| 发明名称 |
化学放大正型抗蚀（光阻）组成物 |
| 摘要 |
一种化学放大正型抗蚀(光阻)组成物，其包含：;(A)树脂，其包含：;(i)式(I)所示之聚合单位：;(I);(ii)式(II)所示之聚合单位：;(II);和(iii)至少一种选自式(III)所示之聚合单位：;(III);和式(IV)所示之聚合单位：;(IV);所组成的群组中之聚合单位；及(B)至少一种酸产生剂。 |
| 申请公布号 |
TWI422974 |
申请公布日期 |
2014.01.11 |
| 申请号 |
TW097117643 |
申请日期 |
2008.05.14 |
| 申请人 |
住友化学股份有限公司 日本 |
发明人 |
秋田诚;末次益实;桥本和彦 |
| 分类号 |
G03F7/039;C08F212/14;C08F220/12;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
