斜面蚀刻处理期间之低-ｋ损坏防止技术

摘要

一种基板的斜面边缘之蚀刻方法。经图案化之光阻遮罩系形成于蚀刻层之上。清洗斜面边缘，包含提供包含CO2、CO、CxHy、H2、NH3、CxHyFz、或其结合中的至少其中之一之清洗气体，自清洗气体中形成清洗电浆，及将斜面边缘暴露于清洗电浆。经由光阻特征，将特征蚀刻入蚀刻层中，及去除光阻遮罩。